Хагас дамжуулагч зөөлөн бал чулуун эсгий

Хагас дамжуулагч зөөлөн графит эсгий нь хэт халуун нөхцөлд хагас дамжуулагч үйлдвэрлэлийн процесст тусгайлан зохион бүтээсэн өндөр цэвэршилттэй, өндөр температурт тэсвэртэй дулааны менежментийн материал юм. Дэвшилтэт хагас дамжуулагч тоног төхөөрөмж, ялангуяа цахиурын карбид (SiC) талстын өсөлт, эпитакси, өндөр температурын дулааны боловсруулалтад ашигладаг тоног төхөөрөмжид дулааны орчныг нарийн хянах нь процессын гүйцэтгэл болон материалын чанарт чухал үүрэг гүйцэтгэдэг. Semixlab-ийн зөөлөн графит эсгий нь эдгээр хүнд хэцүү системүүдийн гол дулаан тусгаарлагч болон дулааны талбайг тогтворжуулах материал болж өгдөг.

Физик уурын тээвэрлэлт (PVT) зэрэг SiC дан талст өсөлтийн процесст бал чулуун эсгий нь зуухны дулааны талбарыг тогтворжуулахад чухал үүрэг гүйцэтгэдэг. Бал чулуун эсгий нь тигель болон халаалтын бүсийн эргэн тойронд тусгаарлагч болон буфер давхарга болж, өсөлтийн камер доторх температурын градиентийг жигдрүүлж, радиаль болон тэнхлэгийн дулааны алдагдлыг багасгадаг. Энэхүү хяналттай дулааны орчин нь тогтвортой сублимаци-дахин талстжих тэнцвэрийг хадгалахад чухал үүрэг гүйцэтгэдэг бөгөөд талстын өсөлтийн хурд, согогийн нягтрал, урт хугацааны өсөлтийн тогтвортой байдалд шууд нөлөөлдөг. Бал чулуун зөөлөн эсгийний зөөлөн, амархан хэвэнд цутгадаг бүтэц нь зуухны нарийн төвөгтэй геометрт нарийн дасан зохицох боломжийг олгодог бөгөөд өсөлтийн урт хугацааны туршид давтагдах дулааны нөхцлийг бүрдүүлдэг.

Хагас дамжуулагч үйлдвэрлэлд түгээмэл байдаг өндөр температурт диффуз, шарах, шатаах процессын хувьд хагас дамжуулагч зөөлөн бал чулуун эсгий нь давтан дулааны мөчлөгийн үед бүтцийн бүрэн бүтэн байдлыг хадгалж, найдвартай дулаан тусгаарлагч орчин болж үйлчилдэг. Вакуум эсвэл инертийн агаар мандалд 2000 °C-аас дээш температурт ажилладаг Зөөлөн тусгаарлагч нь зуухны бүрхүүлийн дулааны алдагдлыг бууруулж, эрчим хүчний үр ашгийг дээшлүүлж, процессын бүсэд температурын жигд тархалтыг дэмждэг. Дулаан дамжуулалт багатай, дулааны цочролд маш сайн тэсвэртэй тул тоног төхөөрөмж болон боловсруулсан материалын ачааллыг багасгаж, тогтвортой үр дүнг баталгаажуулж, тоног төхөөрөмжийн ашиглалтын хугацааг уртасгадаг.

SiC болон GaN эпитакси процесст эпитаксиал реакторууд нь ихэвчлэн өндөр тогтвортой нөхцөл шаарддаг өндөр температурт ажилладаг. Графит зөөлөн эсгий нь реакторын бүрэлдэхүүн хэсгүүдийн дулааны тогтвортой байдал болон хүрээлэн буй орчны тусгаарлалтыг сайжруулдаг. Дотоод дулаалга болон дулааны буфер материалын хувьд энэ нь температурын жигд тархалтыг дэмжиж, гадны дулааны хөндлөнгийн оролцоог багасгаж, эпитаксиал давхаргын жигд байдал болон процессын давтагдах чадварыг шууд бусаар сайжруулдаг. Semixlab-ийн графит эсгийний өндөр цэвэршилт нь эдгээр орчинд онцгой чухал бөгөөд учир нь энэ нь цэвэр процессын нөхцлийг хадгалахад тусалдаг бөгөөд эпитаксиал хальсны чанарыг бууруулж болзошгүй санамсаргүй бохирдлын эрсдлийг бууруулдаг.

Semixlab-ын хагас дамжуулагч зөөлөн графит эсгий нь дээд зэргийн нүүрстөрөгчийн урьдал материал болон нарийн үйлдвэрлэлийн процессоор хийгдсэн бөгөөд өндөр температурт тэсвэртэй байдал, бага дулаан дамжуулалт, онцгой механик уян хатан чанарыг хослуулсан. Эдгээр шинж чанарууд нь хагас дамжуулагч үйлдвэрлэлийн орчинд урт хугацааны тогтвортой ажиллагааг хангахын зэрэгцээ янз бүрийн зуух, реакторын загварт хялбар суурилуулалт, хэлбэржүүлэлт, жигд нэгтгэх боломжийг олгодог. Semixlab-ын дэвшилтэт хагас дамжуулагч материал болон дулааны шийдлүүдийн чиглэлээрх мэргэжлийн ур чадварыг ашиглан энэхүү бүтээгдэхүүн нь өндөр температурт хагас дамжуулагч процессын зайлшгүй суурь материал болж өгдөг. Үүний зэрэгцээ Semixlab нь дэлхийн хэрэглэгчдэд мэргэжлийн техникийн зөвлөгөө, захиалгат бүтээгдэхүүний шийдлүүдийг хангахад чиглэгддэг. Бид Хятадын хагас дамжуулагч үйлдвэрлэлийн дулаан тусгаарлалт болон дулааны талбайн тогтворжуулалтын материалын урт хугацааны түнш болохыг чин сэтгэлээсээ хүсч байна.