Дулааны талбайн бал чулуун эд ангиуд

Дулааны талбайн графит эд ангиуд нь эпитаксиаль реакторуудын дулааны орчны үндсэн архитектурыг бүрдүүлдэг бөгөөд температурын тогтвортой байдал нь талстын чанар, хольцын нарийвчлал, согогийн нягтралыг шууд тодорхойлдог. Si ба SiC эпитаксид - ажлын температур 1600°C-аас хэтэрч болох үед - бидний изостатик графит халаагуур, сусцептор, тусгал, тусгаарлагч бамбай нь жигд хальсан ургалтад зайлшгүй шаардлагатай тогтвортой, тэгш хэмтэй дулааны талбарыг бий болгодог.

Эдгээр бүрэлдэхүүн хэсгүүдийг маш бага металлын бохирдолтой, хэт өндөр цэвэршилттэй бал чулуун зэрэглэлийг ашиглан үйлдвэрлэдэг бөгөөд ингэснээр бөөмс үүсэх нь хамгийн бага бөгөөд ваферын ирмэг ба төвөөс ирмэг хүртэл жигд байх оновчтой байдаг. Semixlab-ийн бал чулуун эд ангиуд нь H₂, Cl₂, NH₃ болон нүүрсустөрөгчийн урьдал бодисуудад тэсвэртэй байхаар бүтээгдсэн дэвшилтэт SiC бүрхүүлтэй хослуулан урт хугацааны, өндөр температурын мөчлөгөөр дамжуулан бүтцийн бүрэн бүтэн байдал болон дулааны үр ашгийг хадгалж, хэвтээ ба босоо эпитакси системд засвар үйлчилгээний хоорондох дундаж хугацааг мэдэгдэхүйц уртасгадаг.

Эпитаксиас гадна дулааны талбайн бал чулуун бүрэлдэхүүн хэсгүүд нь өргөн зурвасын зайтай төхөөрөмжүүд, ялангуяа SiC MOSFET-ийн өндөр температурт шарах процесст шийдвэрлэх үүрэг гүйцэтгэдэг. Эдгээр хэрэглээ нь инертийн эсвэл вакуум агаар мандлын дор 1700–1800°C орчим температурт тогтвортой байдлыг шаарддаг. Semixlab-ийн инженерчлэлийн бал чулуун халаагуур, сусцепторын тавиур, тусгаарлагч цилиндр нь хольцыг идэвхжүүлэх, ом холбоо барих, согогийг засах үед вафлид жигд дулааны нөлөө үзүүлэхийг баталгаажуулдаг. Манай бүрэлдэхүүн хэсгүүд нь вафли нум, гулсах шугам эсвэл талст стрессийг үүсгэж болзошгүй дулааны градиентийг бууруулдаг бөгөөд энэ нь төхөөрөмжийн гүйцэтгэл болон гарцад сөргөөр нөлөөлдөг. Semixlab уусмалаар үүсгэгдсэн оновчтой дулааны талбай нь хольцыг идэвхжүүлэх үр ашгийг нэмэгдүүлж, дулааны цочролыг бууруулж, давтагдах боломжтой, нягт хяналттай өндөр температурын процессыг бий болгодог.

Чохралскийн дан болор зуухны дулааны талбар

Хагас дамжуулагч ваферууд секундэд хэдэн зуун градусын дарааллаар хурдан халаах, хөргөх циклд орох ёстой RTP болон RTA системүүдэд нарийвчлалтай дулааны талбайн бүрэлдэхүүн хэсгүүд нь адилхан чухал юм. RTP нь голчлон чийдэн дээр суурилсан халаалтыг ашигладаг боловч дотоод дулааны архитектур нь ихэвчлэн пиролитик бал чулуун тусгал, бага хий ялгаруулдаг бал чулуун тулгуур, инженерчлэгдсэн хамгаалалтын бүрэлдэхүүн хэсгүүдээс бүрддэг бөгөөд цацрагийн энерги ваферт хэрхэн хүрэхийг тодорхойлдог.

Semixlab-ийн бал чулуун эд ангиуд нь цацрагийн дулааны тархалтыг тогтворжуулах, ирмэгийн халуун цэгийн нөлөөллийг дарах, гажуудал эсвэл хий ялгаруулалтгүйгээр хэт хурдан дулааны шилжилтийг дэмжих зориулалттай. Энэ нь дэвшилтэт CMOS зангилаануудад хольцыг идэвхжүүлэх, силицид үүсэх, хэт гүехэн уулзваруудыг цэвэрлэх, хаалганы стекийн оновчлол, деформацийн инженерчлэл зэрэг чухал алхмуудын процессын жигд байдлыг хангадаг.

Эдгээр бүх өндөр температурын процессуудад Semixlab-ийн Дулааны Талбайн Графит Хэсэг нь дулааны урсгалыг оновчтой болгох, температурын градиентийг бууруулах, давтан дулааны цочрол, идэмхий химийн бодис, хэт цэвэр вакуум орчинд найдвартай ажиллахаар зохион бүтээгдсэн. Манай нэгдсэн чанарын систем нь тэргүүлэгч хагас дамжуулагч тоног төхөөрөмж үйлдвэрлэгчдийн шаардлагыг хангасан эсвэл давсан хэмжээст нарийвчлал, гадаргуугийн цэвэр байдал, бүрхүүлийн наалдацын тогтвортой байдлыг баталгаажуулдаг. Semixlab нь Хятад дахь таны урт хугацааны түнш болохыг чин сэтгэлээсээ хүсч байна.